Mentor EDA 軟件進一步支持三星Foundry 5/4nm 工藝技術
發布時間：2020-8-20 10:47
發布者：eechina
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Mentor, a Siemens business 旗下領先的 Calibre nmPlatform 和 Analog FastSPICE (AFS) 定制和模擬/混合信號 (AMS) 電路驗證平臺現已符合三星Foundry最新的5/4 nm FinFET工藝技術要求，客戶可以使用最新的解決方案為其先進的IC 設計tapeouts進行驗證和sign-off。 三星5nm FinFET 工藝在功耗、性能和面積 (PPA) 方面表現優異，其本身具備的增強功能，結合更加精細的5nm 幾何尺寸，能夠獲得比前幾代工藝節點更為出色的性能提升。 三星電子設計支持團隊副總裁 Jongwook Kye 表示：“三星與 Mentor 的合作由來已久，我們的共同客戶能夠以此充分使用Calibre 解決方案的各種功能�，F在，Calibre 和 AFS 都已通過最新的三星Foundry的工藝認證，雙方的專業知識再次結合，幫助設計人員快速開發和驗證創新型 IC，以應對各種高速增長的市場和應用需求�！� 除 Calibre nmDRC 之外，同時通過三星Foundry的最新工藝認證的Mentor 工具還包括： • Calibre xACT - 該工具能夠解決與先進納米設計相關的技術挑戰，包括多重曝光、FinFET、局部互連、高復雜性和更嚴苛的約束條件。其獨特的混合引擎提供了場求解器的高精度，這對于FinFET 這類的精細3D 結構而言至關重要，此外Calibre xACT還提供快速的吞吐能力，可迅速完成全芯片設計。 • Calibre YieldEnhancer - 具備 SmartFill 和ECO Fill 功能，客戶可以控制設計平面度，并減少多次設計迭代的周轉時間。Calibre YieldEnhancer 還可以通過自動 PowerVia 流程減少 IR 壓降，從而幫助客戶提升設計的可靠性。三星與 Mentor 合作定制了該工作流程，為其領先的制程技術提供最高數量的過孔加插。 • Calibre PERC - 該工具采用獨特集成的方法對物理版圖和網表進行分析，進而將復雜的可靠性驗證檢查自動化。支持5/4nm 工藝的三星Foundry Calibre PERC 設計工具套件能夠提供額外的驗證檢查功能，幫助客戶應對與靜電放電和閂鎖效應可靠性相關的挑戰。 • Calibre nmLVS 可以作為任何三星Foundry提取流程的前端。Calibre nmLVS致力于解決持續增加的布局復雜性，并滿足設計團隊的高級計算需求，助其在驗證復雜電路的同時，以預期的運行時間實現先進工藝節點設計。 • Calibre RealTime 數字和定制接口平臺 - 該平臺利用同樣通過三星Foundry認證批量Calibre的設計套件，在數字化和定制的設計流程中即時進行sign-off質量的DRC檢查。在先進和成熟節點設計的 DRC 收斂期間，這些接口可帶來顯著的生產率優勢，幫助客戶快速優化其手動的DRC 修復，從而能更加專注于其PPA目標。 • AFS平臺，該平臺助力芯片級系統 (SoC) 設計人員充滿信心地完成電路驗證。三星Foundry的器件模型和設計工具套件均支持AFS 平臺。雙方的共同客戶能夠以此在驗證模擬、射頻、混合信號、存儲器和定制數字電路上，實現比傳統 SPICE 仿真器速度更快的納米級 SPICE 精度驗證。 “三星Foundry憑借最新工藝，不斷提供高度創新的技術，以應對日趨復雜的 IC 設計難題，”Mentor Calibre 設計解決方案產品管理副總裁 Michael Buehler-Garcia 表示：“我們很高興能與三星Foundry繼續深化合作，并作為其創新解決方案中的關鍵設計要素，幫助雙方的共同客戶設計和制造最先進的IC產品�！� |
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