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    如何讓QLC技術成為主流?

    發布時間:2025-6-30 18:15    發布者:eechina
    關鍵詞: QLC , FLASH
    作者:鎧俠

    縱觀整個電子行業,往更高密度的集成電路發展無疑是主流趨勢。相對于邏輯電路追求晶體管密度提升,類似于FLASH NAND這樣的非易失性存儲還需要考慮到電子的穩定保存,單純的提升制造工藝并不能很好的解決所有存儲問題,在穩定保存的前提下追求更高的存儲密度才能確保新技術、新產品可持續發展,存儲單元向上要空間成為順理成章的事情,因此在SLC(Single-Level Cell)之后才有MLC(Multi-Level Cell),TLC(Triple-Level Cell),以及日漸成為主流的QLC(Quad-Level Cell)。

    QLC技術并非近段時間的一蹴而就,在2007年,鎧俠前身東芝存儲器就推出了對應的QLC技術和產品,在SLC、MLC還是主流的時代,TLC乃至QLC更像是一場技術前瞻,由于每增加1位數據,需要的電壓狀態就翻倍,因此在1個單元內存儲4位數據,意味著需要16種不同的電壓狀態表達,并且還要考慮傳輸速率、擦寫壽命、數據誤碼率等多重因素影響。這導致,從QLC誕生后很長一段時間內,相應方案的使用率不高。



    沒有在市場大規模應用不代表著技術迭代停止,從初代QLC產品發布至今,鎧俠堅持不懈對QLC技術進行創新,不斷提升穩定性、性能、容量,逐漸讓QLC變得成熟可靠,經過長時間驗證后,獲得行業認可,使得QLC產品在要求嚴苛的商用領域開始大展拳腳。

    已經在中高端手機上采用的鎧俠QLC UFS 4.0產品就是很好的例子。這是業界首款QLC UFS 4.0產品,通過采用鎧俠1Tb BiCS FLASH 3D QLC技術,能夠在有限的移動端內部空間內,顯著提升存儲密度,從而讓終端產品用盡可能少的物理空間,獲得盡量多的數據存儲容量,給終端產品設計留下了更多的空間,也進而提升了產品的競爭力。

    事實上,存儲密度與傳輸速率,直接影響終端產品的實際體驗,QLC與UFS 4.0的融合讓終端的同事獲得了這兩個特點。利用QLC所帶來的更高密度存儲,幫助在手機、平板、VR/AR設備在有限的內部空間內獲得更大的存儲容量,施放更多終端設計潛力,為終端產品提升競爭力。不僅如此,這款產品還充分利用UFS 4.0接口速度,能讓獲得優秀的讀寫體驗,給智能手機和平板電腦等移動設備帶來更好的端側AI體驗,并為邊緣計算、AR/VR等下一代創新應用做好充分準備。

     

    目前,鎧俠QLC UFS 4.0產品已經獲得業界認可,在中高端移動產品中開始采用。而鎧俠1Tb BiCS FLASH 3D QLC技術僅僅是開始,基于第八代BiCS FLASH 3D 2Tb QLC技術的存儲器也已經送樣測試,意味著幾乎相同的空間內,原本能獲得2TB的存儲容量,在新QLC技術的加持下可以獲得4TB,移動端進而獲得更大存儲容量的可能,對于日漸流行的端側AI、AI PC而言,用更低成本獲得更成熟、穩定、高效的存儲空間,也將獲得更大的優勢。

    第八代BiCS FLASH 3D QLC技術突破性的使用了CBA(CMOS directly Bonded to Array,外圍電路直接鍵合到存儲陣列)技術,存儲單元和邏輯單元被分成兩個晶圓分別制造,通過不同制造溫度的控制,分別讓兩個單元獲得更好的效能,從而讓QLC也能獲得優秀的傳輸效率,將接口速度提升至3.6Gbps行業領先水平。這使得即將推廣的UFS 4.1產品獲得更大的性能施放,鎧俠QLC UFS 4.1產品無疑同樣讓人值得期待。



    除2Tb QLC之外,鎧俠第八代BiCS FLASH 3D QLC技術還推出了1Tb QLC版本。相較于容量優化的2Tb QLC,1Tb QLC的順序寫入性能還能再提升約30%,讀取延遲提升約15%。1Tb QLC更適用于高性能領域,包括客戶端SSD和移動設備。

    可以預見,QLC將會成為TLC之后一個新的趨勢,依靠十多年的QLC技術產品積累,鎧俠QLC技術不僅處于行業領先水平,還為新一輪的終端產品升級、行業應用創造了更多可能性,為不斷增長的數據存儲需求提供全新的解決方案。

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