Cadence和GLOBALFOUNDRIES合作改進20及14納米節點DFM簽收
發布時間：2013-5-13 10:28
發布者：eechina
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Cadence模式分類和模式匹配解決方案使客戶先進節點設計的可制造性設計流程加快四倍 Cadence設計系統公司近日宣布，GLOBALFOUNDRIES已攜手Cadence為其20和14納米制程提供模式分類數據。GLOBALFOUNDRIES之所以采用Cadence模式分類和模式匹配解決方案，是因為它們可以使可制造性設計（DFM）加快四倍，這對提高客戶硅片成品率和可預測性非常關鍵。 “我們已集成了Cadence模式分類技術，根據模式相似性將成品率不利因素分成若干模式組，包括不精確模式，從而提高了DRC+這一基于模式匹配的光刻簽收流程的效率�！盙LOBALFOUNDRIES DFM合伙人兼高級總監Luigi Capodieci表示�！皠撔碌腄RC+簽收流程已成功應用于多款32和28納米量產IC設計，現在，我們把它用在目前最先進的制程尺寸上�！� Cadence模式分類技術讓GLOBALFOUNDRIES能將幾十萬個成品率不利因素、制程熱點、及硅片故障歸類為便于使用的模式庫。Cadence模式搜索和匹配分析內嵌于Cadence光刻物理分析器、物理驗證系統、統一的Virtuoso定制/模擬及Encounter數字實現系統解決方案。這為GLOBALFOUNDRIES的客戶提供了靈活性，使其能夠利用Encounter與Virtuoso中的設計中簽收模式匹配及自動修復，建立與全芯片簽收流程百分之百的對應關系，并且已成功應用于數款先進節點量產芯片。 對使用Cadence設計工具的GLOBALFOUNDRIES客戶來說，這一經過硅片驗證的DFM流程易于使用，并能和Cadence的定制、數字、及全芯片簽收流程無縫整合。將基于模式匹配的DRC+集成到Virtuoso版圖套件中，實現了強大的、設計期正確的方法，并實現了不良模式的精細化避免和自動修復。Encounter數字實現系統已經能夠精確并快速地找出并修復100%的DRC+違例，而不會引入額外的DRC或DRC+違例，并已成功應用于數款28納米的設計。 “DFM在芯片開發和制造之間充當著越來越重要的紐帶，并能在硅片成品率和可預測性方面起重大作用�！盋adence芯片實現集團高級副總裁徐季平表示�！癈adence模式分類技術幫助GLOBALFOUNDRIES客戶設定并達到很高的成品率期望，確保他們從復雜設計中獲得盡可能高的回報。GLOBALFOUNDRIES承諾在20、14納米及后續制程節點使用我們的技術，我們對此表示感謝�！� |
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