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    英特爾10納米制程將優先生產3D NAND Flash

    發布時間:2017-9-29 10:22    發布者:eechina
    關鍵詞: NAND , 10nm
    來源:TechNews科技新報

    之前,芯片大廠英特爾在中國舉行的“尖端制造大會”上,正式向大家展示了藉由最新的10納米制程技術所生產的晶圓,并且表示由10納米制程技術所生產的Cannon Lake處理器將會在2017年年底之前開始量產。

    只是,現在有消息透露,首批進入到市場的英特爾 10納米制程技術產品,將不會是大家期待的CPU,而是目前市場價格高漲的NAND Flash快閃存儲器。

    根據業界人士透露,英特爾計劃在自家最新的64層3D NAND Flash快閃存儲器上使用最新的10納米制程技術。至于為何在3D NAND Flash快閃存儲器上首先使用新制程技社,很可能是因為NAND Flash快閃存儲器的結構相對簡單,基本上就是大量同類電晶體的堆積。

    相較之下,CPU處理器的架構就顯得復雜多了。而就由使用新制程技術來生產,復雜性也是關系成功與否的重要風險之一,而這也是英特爾在14納米制程、10納米制程上屢屢延后推出的一項主要因素。

    而依照英特爾的說法,10納米制程技術使用了FinFET(鰭式場效應電晶體)、Hyper Scaling(超縮微)技術,可將電晶體密度提升2.7倍,結果自然可以大大縮小芯片面積,對NAND Flash快閃存儲器的設計來說,當然就能極大地提升容量。

    不過,目前還不清楚英特爾的10納米制程NAND Flash快閃存儲器的具體生產情況為何,但是可以確認的是,未來該批產品將會首先運用于資料中心的市場,等成本下降之后,再推廣到消費等級市場領域。

    本文地址:http://www.portaltwn.com/thread-517427-1-1.html     【打印本頁】

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