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    頂級光刻機售價近12億元!中國企業能隨便買的,是另一種

    發布時間:2020-10-16 09:57    發布者:eechina
    關鍵詞: EUV , DUV , 光刻 , ASML
    來源:中國證券報

    ASML的EUV光刻機是目前全球唯一可以滿足22nm以下制程芯片生產的設備,其中10nm及以下的芯片制造,EUV光刻機必不可缺。一臺EUV光刻機的售價為1.48億歐元,折合人民幣高達11.74億元。媒體稱,臺積電采購的EUV光刻機已經超過30臺,三星累計采購的EUV光刻機不到20臺。
    圍繞芯片制造要用到的關鍵設備——光刻機,一直不缺話題。

    比如,一臺EUV光刻機賣多少錢?誰買走了這些EUV光刻機?大陸廠商還能買到光刻機嗎?為何三星高管最近跑去荷蘭拜訪ASML總部?

    上面這幾個問題,其實可以在ASML和臺積電最新發布的三季報及業績說明會中找到部分答案。兩家公司的地位無需多言,前者是全球頂級光刻機龍頭,后者是全球芯片制造龍頭。

    一臺售價近12億元

    關于售價,ASML總裁兼首席執行官Peter Wennink10月14日介紹公司三季度業績情況時間接給出了答案。他表示,“我們第三季度的新增訂單達到29億歐元,其中5.95億歐元來自4臺EUV設備!焙唵螕Q算一下,一臺EUV光刻機的售價為1.48億歐元,折合人民幣高達11.74億元。

    這是什么概念?2019年,A股還有1462家上市公司的營業收入低于11.74億元。換句話說,ASML每年賣一臺EUV光刻機,收入就可完勝A股的1/3公司。

    售價這么高,ASML根本不愁買家,公司愁的是產能跟不上需求。

    ASML的EUV光刻機是目前全球唯一可以滿足22nm以下制程芯片生產的設備,其中10nm及以下的芯片制造,EUV光刻機必不可缺。

    據了解,EUV光刻機不需要多重曝光,一次就能曝出想要的精細圖形,沒有超純水和晶圓接觸,在產品生產周期、光學鄰近效應矯正的復雜程度、工藝控制、良率等方面都有明顯優勢。

    ASML的EUV光刻機也在推陳出新。公司10月14日還公布了EUV路線圖上的新機型TWINSCANNXE:3600D的最終規格,曝光速度達到每小時曝光160片晶圓,提高了18%的生產效率,計劃于2021年的中期開始發貨。

    ASML三季度凈銷售額為40億歐元,預計四季度的銷售額將在36億歐元到38億歐元之間,毛利率約50%!2021年,由于宏觀環境的不確定因素,包括疫情給經濟帶來的影響,以及地緣政治的變化,我們預期業績增長將是低雙位數。盡管如此,終端市場驅動因素的變化(比如5G、人工智能和高性能計算),將推動先進制程的邏輯芯片和存儲芯片的市場需求,這都需要使用到先進的光刻機! Peter Wennink說。

    芯片大廠爭購

    ASML的EUV光刻機在2016年正式上市,主要供應給英特爾、臺積電和三星這三家大客戶。其EUV光刻機出貨量一直在增加,從2016年的5臺上升到2019年的26臺。

    目前,臺積電已將可量產的工藝推到5nm,大幅領先英特爾和三星;同時,按照計劃,公司3nm工藝將在明年試產,2022年下半年正式量產。重要的是,客戶對其7nm工藝和5nm工藝的需求十分強勁,這兩項工藝的收入占比在三季度已達43%。因此,臺積電對EUV光刻機的需求無疑也是最強勁的。

    近期有媒體報道,由于先進工藝推進順利和訂單擴大,臺積電將加大EUV光刻機的采購力度,預計到2021年底采購量至55臺左右。臺積電方面回復中國證券報記者采訪時表示,公司不評論市場傳聞。前述媒體援引半導體供應鏈消息稱,臺積電采購的EUV光刻機已經超過30臺,三星累計采購的EUV光刻機不到20臺。

    值得注意的是,ASML的財報顯示,三季度來自中國臺灣地區貢獻的收入占比為47%,環比提高了26個百分點。業界認為,這主要是由臺積電采購EUV光刻機帶來。

    與此同時,ASML來自韓國的收入占比出現下降,從二季度的38%下降到三季度的26%。有報道稱,三星電子副董事長李在镕近日飛赴ASML荷蘭總部會晤,雙方探討的核心是EUV光刻機的供應和裝配(5nm),同時就面向AI等領域的下一代光刻機研發合作交換了意見。

    當然,ASML光刻機的買家還有大陸廠商,但購買EUV光刻機存在阻力,而購買DUV光刻機無礙。Peter Wennink表示,“根據當前法規,ASML無需獲得美國出口許可證便可以繼續從荷蘭向中國客戶出貨DUV光刻系統;對于直接從美國發貨系統或零件到受法規影響的客戶,ASML需獲得許可證!

    EUV光刻機和DUV光刻機有什么不同?

    根據曝光源的不同,光刻機分為EUV型(極深紫外線)、DUV型(深紫外線)。從制程范圍來看,DUV基本上只能做到25nm,而EUV能滿足10nm以下的晶圓制造需求。


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