國產光刻膠產品通過半導體工藝量產驗證
發布時間：2024-10-16 09:33
發布者：eechina
關鍵詞：
光刻膠
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武漢太紫微光電科技有限公司（以下簡稱“太紫微公司”）近日推出的T150 A光刻膠產品，成功通過了嚴格的半導體工藝量產驗證。這一突破標志著中國在高端光刻膠領域取得了重要進展，為半導體產業的自主可控發展注入了強勁動力。 太紫微公司，這家于2024年5月剛剛成立的企業，背后有著華中科技大學武漢光電國家研究中心團隊的強力支撐。該團隊在電子化學品領域深耕二十余年，致力于關鍵光刻膠底層技術的研發。此次推出的T150 A光刻膠產品，正是團隊多年努力的結晶。 據了解，T150 A光刻膠產品對標國際頭部企業的主流KrF光刻膠系列，其在光刻工藝中表現出的極限分辨率達到了120nm，這一指標與被業內稱為“妖膠”的國外同系列產品UV1610相比毫不遜色。更重要的是，T150 A在工藝寬容度、穩定性以及堅膜后烘留膜率等方面均表現出色，對后道刻蝕工藝也極為友好。密集圖形經過刻蝕后，下層介質的側壁垂直度依然能保持優異狀態，這一特性使其在半導體制造中更具應用價值。 
太紫微公司的企業負責人朱明強教授，同時也是英國皇家化學會會員和華中科技大學的二級教授，他表示：“從原材料開發起步，最終獲得自主知識產權的配方技術，這僅僅是一個開端。團隊深知，要想真正在國內半導體光刻制造領域開創嶄新局面，不能僅僅滿足于這一項成果�！币虼�，太紫微公司計劃繼續發力，發展一系列應用于不同場景下的KrF與ArF光刻膠，以滿足半導體產業日益多樣化的需求。 此次T150 A光刻膠產品通過量產驗證，不僅填補了國內在高端光刻膠領域的部分空白，還打破了國外在該領域的部分技術壟斷。這對于提升我國半導體產業的自主可控能力具有重要意義。隨著國內半導體產業的快速發展，對高性能光刻膠的需求日益迫切。T150 A的成功量產，將為國內半導體企業提供更加可靠、穩定的光刻膠選擇，有助于推動我國半導體產業向更高水平邁進。 |
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