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    英特爾CEO:EUV光刻技術或助力芯片突破摩爾定律

    發布時間:2013-11-4 16:41    發布者:eechina
    關鍵詞: 摩爾定律 , EUV , 極紫外線 , 光刻
    據美國科技博客BusinessInsider報道,在近50年的科技發展中,技術變革的速度一直遵循著摩爾定律。一次又一次的質疑聲中,英特爾堅定不移地延續著摩爾定律的魔力。

    摩爾定律是由英特爾聯合創始人Gordon Moore提出,內容為:當價格不變時,集成電路上可容納的晶體管數目,約每隔18個月便會增加一倍,性能也將提升一倍。換言之,每一美元所能買到的電腦性能,將每隔18個月翻兩倍以上。這一定律揭示了信息技術進步的速度。

    在幾十年來,芯片技術得以快速變革和發展,變得更加強大,節省了更多的空間和資源,這也使得電腦的速度成倍地變快、體積成倍地變小。

    但有些物理專家表示,除非有某種技術的突破才能突破摩爾定律的限制。今天,英特爾等芯片廠商通過量子力學技術能夠在尖端芯片上擺放數十億個微處理器。

    摩爾定律的延續已成為一個巨大挑戰,英特爾CEO Brian Krzanich給出的解決方案是——一種新的技術extreme ultraviolet lithography(EUV,極紫外線光刻技術),可以幫助英特爾繼續做出更小、更快、更高效的芯片。不幸的是,這說起來容易做起來難。

    荷蘭微影設備大廠ASML在2009年就公布了EUV光刻技術,但一直未有顯著的進展,為推動該技術的研發,在去年的夏天英特爾向其注資41億美元。

    雖然在芯片創新的路上存在無數的挑戰和障礙,但是英特爾一直沒有停止過自己的腳步:上月中旬,英特爾在IDF上展示了在PC上運行的14nm Broadwell CPU。日前,英特爾CEO稱,由于生產問題,下一代Broadwell處理器將被推遲至明年發布。

    另外,英特爾計劃在2015年采用10 nm的晶體管,而到了2017年達到7 nm,這些都是出奇的小。相比較而言,人身上的血細胞是7000 nm,而一個DNA鏈為2.5 nm。

    英特爾目前還未過多的談論EUV光刻技術,可能涉及競爭的原因等,但是,如果該技術被得以大范圍采用并推向市場,那么7 nm芯片等都也將成為可能。
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