EUV光源廠商Ushio從Gigaphoton撤資
發布時間：2011-4-27 07:37
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日本小松公司（Komatsu）與Ushio公司近日決定終止兩家公司有關EUV光刻機光源合資廠商Gigaphoton項目的合資合同。小松將從Ushio公司手中收購Gigaphoton余下的50%股份，這樣Gigaphoton將成為小松的獨資公司。
Gigaphoton的光源技術發展規劃圖 Gigaphoton原為小松和Ushio各占50%股份的合資公司,這家公司于2000年8月份成立，主要業務是開發，制造和銷售光刻機用準分子激光器光源，并為顧客提供服務，同時還有研發制造248nm/193nm（干式/液浸式系統）光刻機。 目前為EUV光刻機開發光源的廠商主要包括Cymer，Gigaphoton, Ushio等幾家。其中Gigaphoton的主要研究方向是LPP型光源，即激光式等離子光源；而Ushio則主要致力于DPP光源即放電式等離子光源的研發。相比之下，另外一家EUV光源廠商Cymer的主要研究方向也是LPP型光源。
LPP光源的原理是采用激光束加熱工質生成等離子體，而DPP則采用電脈沖的方式來加熱工質生成等離子體。 而現在Ushio從Gigaphoton中撤資，這樣一來，兩家公司就要從原來的相互合作關系變成相互競爭的關系。 去年，Ushio公司收購了皇家飛利普電子公司的EUV光源業務部門，飛利浦公司已經將旗下的EUV光源業務全部轉交給其設在日本的EUV光源研發公司 Xtreme Technologies。自2008年起，Xtreme Technologies便一直在與飛利浦進行EUV光源技術方面的合作。 2005年，Ushio收購了Xtreme公司50%的股份，08年，這家公司開始與飛利浦共同研究EUV光源技術，同年，Ushio收購了Xtreme剩余的股份，將其變成自己全資控股的子公司。 EUV光刻目前是下一代光刻技術的首選，不過由于在光源，光阻膠，掩模技術以及量檢測技術方面遇到技術難題而數度后延了投入量產使用的時間，甚至有可能錯失在1xnm節點被啟用的大好時機。 另：有關EUV與EUV光源發展現狀的更多信息，讀者還可閱讀這篇文章了解。 |
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