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    EUV光刻機破局者出現,2024年實現5nm量產,2026年實現2nm

    發布時間:2024-3-7 14:57    發布者:eechina
    關鍵詞: EUV , 光刻機
    來源:科技直擊

    荷蘭的ASML可以說是光刻機領域的巨頭,不僅是唯一一個能夠出貨EUV光刻機的廠商,同時也拿下了中高端DUV光刻機的大部分市場份額。前不久ASML推出的NA EUV光刻機可以用于2nm制程芯片的量產,受到了不少芯片代工企業的追捧。

    此前,由于光刻機出口管制的緣故,ASML不僅失去了中國市場,同時出貨量也開始迅速下跌,外界普遍不看好ASML在2024年能夠維持與2023年相當的出貨量。原本ASML以為可以依靠NA EUV光刻機來挽回一下營收,可是從目前的情況來看,佳能最新的納米壓印半導體設備將在今年正式量產,這意味著在光端光刻機領域,ASML也迎來了最大的“競爭對手”。

    納米壓印技術是一種新興的芯片制造技術,近些年來也成為了不少半導體設備廠商研發的重點之一。這種技術和傳統的光刻技術相比有著不少的優點,其中最顯著的一項就是成本造價更低,然后分辨率也更高。

    如今的EUV光刻機單臺售價都在上億美元,而最新的NA EUV光刻機更是在3億多4億美元,折合人民幣在20億到30億元左右。對于芯片制造廠商來說也是一個不小的負擔,可以說價格十分的昂貴。

    從此前佳能傳出的消息來看,單臺DPA-1200NZ2C納米壓印光刻機,能夠實現5nm制程芯片的生產,與同樣生產5nm制程的EUV光刻機相比,成本僅有10%左右。這也意味著售價基本上也就是EUV光刻機的十分之一左右了。

    最關鍵的是,成本低不僅僅表現在造價成本上,還表現在使用成本上。光刻機一直都是耗電大戶,可是又不能反復關閉,會導致設備受損。因此在EUV光刻機不適用的時候也只能開著,這也導致耗電量的進一步增加。納米壓設備在使用的時候耗電量也僅有光刻機的10%左右,這其實也就意味著購買一臺EUV光刻機,可以購買10臺相同制程的納米壓印設備了。

    目前,納米壓印設備實現了5nm制程,佳能表示將會在2024年進行量產,不過目前的產能有多少還是一個未知數,這款納米壓印設備能否替代EUV光刻機還是要看之后的產能。最值得關注的一點的是,從佳能透露的消息來看,預計到2026年前后該設備可能突破2nm制程,可以用于2nm制程芯片生產。

    這也意味著,在先進制程方面納米壓印設備的追趕還是很快的,如果實際表現真的如目前公開的情況來看,那么有可能將會對如今的全球芯片產業格局產生不小的影響。

    要知道,納米壓印設備可是佳能自己研發出來的,其中基本上沒有多少美國技術,這也意味著美國是無法限制納米壓印設備出貨的。之后國內廠商很有可能可以購買到這種設備,實現先進芯片的量產也會更加方便一些。

    這對于ASML來說顯然不是什么好消息,畢竟如今能夠生產先進芯片的廠商數量并不算多,基本上就是臺積電、三星等幾家,這些廠商都已經擁有了足夠數量的EUV光刻機,這也導致ASML的EUV光刻機出貨數量受到影響。佳能的納米壓印設備不受出口管制影響,顯然能夠比EUV光刻機獲得更多的用戶青睞。

    毫無疑問,半導體設備領域已經開始發生變化了,ASML能否繼續守住目前的光刻機巨頭位置估計不太好說了。
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